產(chǎn)品中心

PRODUCT SERIES

光譜橢偏儀ES01

ES01系列是ELLITOP針對(duì)科研和工業(yè)環(huán)境中薄膜測(cè)量推出的高精度快速攝譜型光譜橢偏儀，波長(zhǎng)范圍覆蓋紫外、可見(jiàn)到紅外。 ES01光譜橢偏儀基于高靈敏度光譜探測(cè)單元和光譜橢偏儀分析軟件，用于測(cè)量單層和多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)（如，厚度）和物理參數(shù)（如，折射率n、消光系數(shù)k，或介電函數(shù)ε1和ε2），也可用于測(cè)量塊狀材料的光學(xué)性質(zhì)。

橢偏膜厚儀ESH

ESH系列是ELLITOP針對(duì)科研和工業(yè)客戶(hù)中薄膜測(cè)量推出的高精度、快速橢偏膜厚測(cè)量?jī)x，集合了橢偏儀的高精度和膜厚儀的測(cè)量范圍廣、測(cè)量速度快、極小光斑（1μm）等特點(diǎn)，波長(zhǎng)范圍覆蓋紫外、可見(jiàn)到紅外。儀器基于高靈敏度光譜探測(cè)單元和光譜橢偏儀分析軟件，主要用于測(cè)量單層和多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)(如，厚度)和物理參數(shù)(如，折射率n、消光系數(shù)k，或介電函數(shù)ε1和ε2)，也可用于測(cè)量塊狀材料的光學(xué)性質(zhì)。

激光橢偏儀EMPro

EMPro系列是針對(duì)高端研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的極致型多入射角激光橢偏儀。 EMPro系列可在單入射角度或多入射角度下對(duì)樣品進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)量。可用于測(cè)量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k；也可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；亦可用于實(shí)時(shí)測(cè)量納米薄膜動(dòng)態(tài)生長(zhǎng)中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了納米薄膜的絕對(duì)厚度測(cè)量。

光伏專(zhuān)用激光橢偏儀EMPro-PV

EMPro-PV是ELLITOP針對(duì)光伏太陽(yáng)能電池高端研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的專(zhuān)用型多入射角激光橢偏儀。 EMPro-PV用于測(cè)量絨面單晶硅或多晶硅太陽(yáng)電池表面減反膜鍍層的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可測(cè)量光滑平面材料上的單層或多層納米薄膜的膜層厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系數(shù)k。 EMPro-PV融合多項(xiàng)量拓科技專(zhuān)利技術(shù)，采用單多晶一體化樣品臺(tái)技術(shù)，兼容測(cè)量單晶和多晶太陽(yáng)電池樣品，并實(shí)現(xiàn)二者的瞬間輕松轉(zhuǎn)換。一鍵式多線(xiàn)程操作軟件，使得儀器操作簡(jiǎn)單安全。

ET8100A

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是以半導(dǎo)體為基礎(chǔ)發(fā)展起來(lái)的一個(gè)產(chǎn)業(yè)，這個(gè)產(chǎn)業(yè)包括從半導(dǎo)體材料的提取、設(shè)備制造、芯片設(shè)計(jì)、制造到封裝測(cè)試的整個(gè)過(guò)程，涵蓋了從上游材料及設(shè)備提供、中游芯片設(shè)計(jì)及制造到下游終端應(yīng)用的三大環(huán)節(jié)。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的核心技術(shù)包括芯片的研發(fā)和設(shè)計(jì)能力，對(duì)工藝控制能力和精密度要求較高，特別是隨著品圓尺寸的增加和芯片制程的先進(jìn)化，對(duì)晶圓和芯片制造商的技術(shù)能力要求也將不斷增強(qiáng)。隨著半導(dǎo)體行業(yè)不斷實(shí)現(xiàn)摩爾定律，薄膜厚度越來(lái)越薄，芯片制造商必須實(shí)施有效的超薄電介質(zhì)材料的過(guò)程監(jiān)測(cè)。

膜厚儀EH100-X

EH100-X膜厚儀是應(yīng)用于工業(yè)和科研領(lǐng)域中薄膜厚度常規(guī)測(cè)量的經(jīng)濟(jì)型解決方案，儀器一鍵操作極其簡(jiǎn)單，可測(cè)量從幾納米到數(shù)百微米厚的透明或半透明薄膜，一次測(cè)量1秒內(nèi)完成。 EH100-X膜厚儀基于白光干涉反射光譜的測(cè)量原理。寬光譜光波0°垂直入射到樣品表面，在樣品基底和膜層之間發(fā)生干涉，反射光波由高靈敏度光譜陣列探測(cè)單元接收，采用專(zhuān)用軟件對(duì)光波的光譜反射率進(jìn)行分析，得到樣品鍍層的膜厚信息。進(jìn)一步，還可以通過(guò)分析得到膜層的其它物理信息（如，折射率、消光系數(shù)）。儀器適合于工業(yè)和科研中的常規(guī)測(cè)量，可應(yīng)用于多種薄膜鍍層工藝中，如化學(xué)機(jī)械拋光、化學(xué)氣象沉積、物理氣相沉積、旋涂成膜工藝等。

膜厚儀EH200-X

EH200膜厚儀是應(yīng)用于工業(yè)和科研領(lǐng)域中微區(qū)薄膜厚度常規(guī)測(cè)量的經(jīng)濟(jì)型解決方案，儀器一鍵操作極其簡(jiǎn)單，可測(cè)量從幾納米到幾百微米范圍內(nèi)的透明或半透明薄膜，一次測(cè)量1秒內(nèi)完成。

紅外光譜橢偏儀

ES03A-IR 紅外光譜橢偏儀集成了高精度、高分辨率的紅外傅里葉光譜（ FTIR ）和高靈敏度的光譜橢偏儀，光譜范圍覆蓋1.7到30um 。ES03A-IR 紅外光譜橢偏儀用于表征復(fù)雜膜系的化學(xué)、機(jī)械、電子、光學(xué)性能，可應(yīng)用于光學(xué)鍍層、半導(dǎo)體、生物、化學(xué)工業(yè)，以及材料研究等領(lǐng)域，以及分子振動(dòng)光譜范圍內(nèi)的有機(jī)導(dǎo)體、OLED 和聚合物等材料。

企業(yè)介紹

北京量拓科技有限公司(ELLITOP SCIENTIFIC CO., LTD.)成立于2008年4月，是中國(guó)具有影響力的專(zhuān)業(yè)橢偏測(cè)量整體解決方案提供商。專(zhuān)業(yè)致力于橢偏測(cè)量的方法研究、技術(shù)開(kāi)發(fā)、產(chǎn)品制造和銷(xiāo)售，并提供橢偏測(cè)試服務(wù)和橢偏測(cè)量整體解決方案。經(jīng)過(guò)持續(xù)的創(chuàng)新發(fā)展，產(chǎn)品已應(yīng)用于計(jì)量、工業(yè)質(zhì)檢、研究開(kāi)發(fā)等領(lǐng)域，服務(wù)于半導(dǎo)體、光伏、光電子、納米材料、光通訊、遙感等行業(yè)。
ELLITOP SCIENTIFIC CO., LTD. was established in April 2008 and is an influential professional provider of overall solutions for ellipsometry measurement in China. We are dedicated to the research, technical development, product manufacturing, and sales of ellipsometry measurement methods, and provide ellipsometry testing services and overall solutions for ellipsometry measurement. Through continuous innovation and development, the product has been applied in fields such as metrology, industrial quality inspection, research and development, serving industries such as semiconductors, photovoltaics, optoelectronics, nanomaterials, optical communication, and remote sensing.